接近式光刻机-岱美仪器技术服务（上海）有限公司

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EVG620 NT-掩模对准光刻机系统参考价：面议

参考价：面议型号：Dymek岱美仪器
EVG620 NT-掩模对准光刻机系统EVG ® 620 NT提供国家的本领域掩模对准技术在小化的占位面积，支持高达150毫米晶圆尺寸。
型号： Dymek岱美仪器品牌：EVG所在地：上海市 对比

自动掩模对准系统对准系统光刻机光刻机价格掩模对准曝光机

2025/4/8 14:29:106419
Dymek岱美仪器量产型光刻机系统参考价：面议

参考价：面议型号：HERCULES
光刻机Track系统通过集成的生产系统和结合掩模对准和曝光以及集成的预处理和后处理的高度自动化功能，完善了EVG光刻机产品系列。HERCULES光刻机Track...
型号： HERCULES 品牌：EVG所在地：上海市 对比

HERCULESEVG纳米压印光刻机

2024/11/9 15:09:324390
Dymek岱美中国仪器自动掩模对准系统参考价：面议

参考价：面议型号：IQ Aligner NT
新型IQ Aligner NT具有高强度和高均匀度的曝光光学器件，新的晶圆处理硬件，可实现全局多点对准的200mm和300mm晶圆全覆盖范围以及优化的工具软件...
型号： IQ Aligne... 品牌：EVG所在地：上海市 对比

光刻机光刻掩膜掩模曝光

2024/11/9 16:20:012092
EVG610-单面、双面光刻系统参考价：面议

参考价：面议型号：
EVG610-单面、双面光刻系统 EVG光刻机EVG®610是一款紧凑型多功能研发系统，可处理零碎片和大200 mm的晶圆。
型号：品牌：EVG所在地：上海市 对比

自动掩模对准系统对准系统光刻机光刻机价格

2024/11/9 13:15:232880
EVG6200 NT掩模对准光刻系统参考价：面议

参考价：面议型号：
EVG6200 NT掩模对准光刻系统特色：EVG ® 6200 NT掩模对准器为光学双面光刻的多功能工具和晶片尺寸高达200毫米。
型号：品牌：EVG所在地：上海市 对比

自动掩模对准系统对准系统光刻机光刻机价格纳米压印机

2024/11/9 13:13:263797
IQ Aligner 自动掩模对准系统参考价：面议

参考价：面议型号：
IQ Aligner 自动掩模对准系统用于自动非接触近距离掩模对准光刻，进行了处理和优化，用于晶圆片的尺寸高达200毫米。
型号：品牌：EVG所在地：上海市 对比

自动掩模对准系统对准系统光刻机光刻机价格

2024/11/9 12:34:332710
光刻胶匀胶机参考价：面议

参考价：面议型号：EVG101
研发和小规模生产中的单晶圆光刻胶加工。 EVG101光刻胶匀胶机在单室设计上可以满足研发工作，与EVG的自动化系统*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圆，...
型号： EVG101 品牌：所在地：上海市 对比

匀胶机匀喷胶机微流控加工光刻胶加工EVG101

2024/11/26 17:18:144257
EVG单面/双面掩模对准光刻机参考价：面议

参考价：面议型号：EVG610
EVG单面/双面掩模对准光刻机EVG610（单面/双面掩模对准光刻机微流控纳米压印）支持各种标准光刻工艺，如真空，硬，软接触和接近式曝光模式，可选择背部对准...
型号： EVG610 品牌：EVG所在地：上海市 对比

EVG光刻机微流控EVG微流控芯片接触式光刻机

2024/11/9 12:10:299800